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連續鍍膜生產線
本設備廣泛運用在太陽能電池上，透明導電膜作為減反射層和透明電極使用，可以提高太陽能的轉換效率，降低成本，無毒環保，膜層穩定，同時可以消除立式生產線無法大規模生產的弊端，可以大大提高生產量。
該設備可鍍制半導體芯片中的光掩膜基板，EMI封裝，配備除氣、等離子體處理、濺射等模塊，標準化和模塊化設計理念，高客制化，兼顧產品規格與低投資成本需求，關鍵部件采用進口配件，保障設備穩定。
該設備通過磁控濺射方式鍍制DLC硬膜，莫式硬度大于8，鉛筆硬度大于9H，薄膜硬度接近于藍寶石玻璃，薄膜透過率大于99.4%，鋼絲絨耐磨（@1KG 10mm×10mm>8000次）無劃痕，橡皮擦+酒精耐磨>5000次無損傷，可與AF有效良好結合。
該生產線被廣泛用于建筑裝飾領域的建筑玻璃產品。它是一種鍍膜玻璃，是采用磁控濺射的方式在玻璃上鍍各種金屬，從而形成可見光反射的玻璃，能夠反射大部分的可見光，在夏季也能阻隔室內物體受太陽照射變熱，從而發揮節能降耗目的。同時，大面積反射鏡生產線，可以采用不同的金屬形成不同的反射色彩，是各種裝飾行業首選的建筑玻璃。
該系列設備可連續的對電致變色玻璃進行多層鍍膜，鍍膜分為五層：透明導電層、電致變色層、離子導體層、離子貯藏層、透明導電層，通過真空磁控濺射鍍膜技術，將金屬鎢、鋰等金屬、非金屬材料濺射到玻璃表面。
該設備是一款大型平面磁控濺射連續生產設備，采用模塊化設計，方便日后擴展升級；配備多組大型磁控陰極，可適用于多種膜系結構的組合；全自動化控制，高穩定性傳動系統，可與機械手無縫對接，實現連續穩定的流水線作業；生產節拍快，產量大。
HCVAC-PVD
