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鍍鉻是賦予產品高機械性能的理想鍍膜方式，同時具有吸引人的金屬外觀和美學沖擊力，從而增加了產品的附加值。與傳統電鍍相比，UV-PVD組合更安全，更經濟，更環保，傳統電鍍因此逐漸被淘汰。

采用真空濺射技術，徹底消除有害排放物，發展了環保鍍鉻代替電鍍處理。流程周期非常快，其卓越的性能轉化為高效、經濟的綠色生產。UV-PVD鍍鉻工藝是環保的，它在常溫下工作，沒有水消耗和化學排放，通過減少生產時間，重復周期和缺陷最小化，保證了高成本效益的加工周期，低成本消耗和高生產率。

除鉻涂層外，還可以鍍銀，在色彩和效果方面提供非常廣闊的設計選擇和設計色彩的多樣性。

      類金剛石涂層經常適用于汽車引擎以減少發動機的摩擦，黑色的色彩使DLC涂層在作為裝飾涂層(如:手表)上受到廣泛歡迎，并且由于其較低摩擦和無粘連系數，使其很好的運用在工具涂層。DLC涂層技術非常適用于機械的加工和鑄造/鍛造，以及鋁及塑料注塑模具的涂層。

類金剛石(DLC)涂層技術：

      不同類型的類金剛石涂層，具有不同的生產技術。DLC涂層適用于極端磨損情況和高相對速度，甚至是在無潤滑運轉的條件下使用，具有卓越的耐磨蝕性、抗摩擦氧化性和附著性（防磨損），可承受在正常條件下會立刻導致磨損和冷焊的表面壓力，將摩擦損失降至最小，良好的耐腐蝕性使基體免受破壞性攻擊。

一次走帶完成PET/PP雙面鍍膜的PVD卷繞鍍膜設備，高致密、附著力強的金屬膜，高精度卷繞系統，低張力控制，基材特殊展平效果，實現高產能批量化生產。

超薄復合銅箔PVD RTR鍍膜設備：

實現在厚度3.0～4.5μm、幅寬600～1650mm的PET/PP塑料薄膜表面一次完成雙面鍍銅膜，“PVD銅-高分子支撐層-PVD銅”三明治結構，設備工藝走速0.5-30m/min。

超薄復合鋁箔PVD RTR鍍膜設備：

實現在厚度4.5～6.0μm、幅寬600～1700mm的PET/PP塑料薄膜表面雙面鍍鋁膜，“PVD鋁-高分子支撐層-PVD鋁”三明治結構，設備工藝走速30-100m/min，攻克大規模快速蒸發沉積厚鋁膜難關。

HCVAC將碳基涂層工藝和真空鍍膜設備技術方面的長期經驗應用于燃料電池的金屬雙極板。通過在涂層腔體中實施等離子體表面清潔和特殊結合層,已經獲得了在結合力、導電性和耐腐蝕性方面的良好結果。

公司主要給市場提供金屬雙極板涂層設備為主,可以根據客戶需要提供涂層材料,包括石墨及貴金屬。小批量實驗生產設備和大批量生產的成本價值與工業路線非常一致。

HCVAC抗菌涂層結合了PVD涂層的強度、耐用性和美觀，具有卓越抗菌性能，它的抗菌特性可抑制表面可能感染的病原體增殖，所有可能與人接觸的日常物品都需要這類型的涂層。

得益于HCVAC開發的創新涂層工藝，抗菌涂層不僅能夠完全抑制細菌的生長，還能消除它們，確保表面完全衛生。

通過精確實驗室測試證明的這種抗菌效率是由于多層涂層復雜結構中的納米嵌入引起的，該涂層通過阻斷其營養并中斷細胞分裂周期來破壞細菌細胞膜。

抗菌和抗病毒作用

由于涂層的物理特性，抗菌作用持續貫穿物體整個使用壽命，并隨著時間的推移而改善。

得益于其抗病毒作用，這是一種完全低過敏性產品。此外，根據DM 3/21/1973測試，該涂層對人體接觸是完全安全的。

抗菌顏色和基材

HCVAC抗菌涂層的抗菌特性與PVD涂層美學品質相結合：硬度、抗紫外線、高顏色穩定性和耐刮擦性。

抗菌涂層可應用于許多不同類型的基材：黑色金屬和有色金屬、ABS 和聚碳酸酯等聚合物（經過適當的預處理）。

實驗室測試

HCVAC抗菌涂層的功效針對大腸桿菌（革蘭氏陰性）和金黃色葡萄球菌（革蘭氏陽性）菌株的細菌進行了測試，這兩種細菌都屬于對“接觸感染”最大責任的流行細菌家族，在新生產的樣品和已經使用了很長時間的產品上均取得優異的結果。

熱障涂層是先進航空發動機和地面燃氣輪機研制的關鍵技術，由隔熱性能優良的陶瓷面層和起粘接作用的金屬底層構成，可以避免高溫燃氣與金屬基體直接接觸，對基體形成有效保護，起到延長發動機工作壽命、提高燃燒效率的作用。

PS-PVD用快速熱噴涂的方法實現了大面積、均勻化的物理氣相沉積。通過改變等離子射流狀態，PS-PVD還可以實現多相復合涂層的沉積，拓展了不同組織結構熱障涂層的設計與制備。更為重要的是，PS-PVD的等離子射流具有良好的繞鍍性，可以在外形復雜的工件表面實現非視線熱障涂層沉積。

激光雷達廣泛應用于無人駕駛及無人機等領域，激光雷達系統包括一個單束窄帶激光器和一個接受器，可見窄帶濾光片在激光雷達中有著舉足輕重的位置，在未來的應用將更加廣泛。

激光雷達是以發射光束探測目標的位置、速度等特征量的雷達系統。

相當于我們的眼睛，具有很強大復雜的信息感知和處理能力。

激發光雷達在很多年前就被廣泛應用于飛機避障、偵查成像、導彈制導等領域，應用場景極為豐富。

鏡頭專用IR-CUT濾光片是指半導體感光元件（CCD或CMOS）前面可濾除紅外光，以使鏡頭圖像再現色彩與實際色彩相一致。最常用的是650nm截止型濾光片。

?   UV/IR截止濾光片用于去除不需要的紫外線和紅外線！

要點：
● 用來防止雜散光造成的失靈和紫外線造成的老化。
● 用于除去CMOS/CCD感應器的近紅外線、云紋
● 用于防止雜散光引起的失誤以及紫外線造成的劣化
● 低顆粒，高透光率，霧度降低是很重要的。

目前AR膜主要應用于望遠鏡、眼鏡、數字相機鏡頭、LCD投影系統、光學窗口、保護鏡、筆記本、電腦、手機、電視、眼鏡、觸摸屏等。

從結構上分，AR膜也可以分為單層減反膜和多層減反膜：

單層減反膜為了減小表面反射光，最簡單的途徑是在基材表面上鍍一層低折射率的薄膜。

多層減反膜在薄膜上鍍兩層以上反射材料的稱為多層AR膜，多層比單層有更好的性能。

      AF/AS鍍膜，即防污膜（AS），防指紋膜（AF膜），主要是通過真空鍍膜的技術將有機氟化物材料沉積到各類玻璃或有機玻璃PC、PMMA、PET等基材上，使基材表面具有防水，防油，防刮，防指紋，防污染等功能。

      疏水涂層是一種新的進步，可以添加到我們的鍍膜玻璃中，從而形成防水光學器件，疏水涂層與玻璃結合，形成防污，防灰塵，油脂和液體的屏障，涂層是非酸性的，它允許使用抹布清潔玻璃，而無需使用清潔液，這種防水玻璃涂層非常適合觸摸屏。

      廣泛應用于數碼產品，手表，五金等玻璃，金屬，塑料，陶瓷材質的面板，零件表面，及其裝飾和功能薄膜上加鍍AF，AS涂層，提高表面硬度，光滑度，耐磨性，耐化學性和易清潔性。

AS/AF膜測試標準：
■   初始接觸角范圍為 115±5°；
■   鋼絲絨耐摩擦測試標準：用 0000#鋼絲絨，面積為 10*10mm,行程 40 次/分，負載1Kg，5000 次往返摩擦后，接觸角大于 100°；
■   橡皮擦測試標準： 直徑 6mm 橡皮擦，行程 25 次/分，負載1Kg， 2500 次往返摩擦后，接觸角大于 100°；
備注：測試樣片玻璃需為經過精密拋光過的觸摸屏蓋板專用玻璃，表面光潔。

通過磁控濺射方式鍍制DLC硬膜，莫式硬度大于8，鉛筆硬度大于9H，薄膜硬度接近于藍寶石玻璃，薄膜透過率大于99.4%，鋼絲絨耐磨（@1KG 10mm×10mm>8000次）無劃痕，橡皮擦+酒精耐磨>5000次無損傷，可與AF有效良好結合。

AR 膜（基材玻璃透過率＞91.5%）：
■  420-680nm波段，單面平均透過率＞95%，反射率小于0.5（平均值）% ；
■  雙面平均透過率＞98%，反射率小于0.5（平均值）%；

AS/AF膜測試標準：
■   初始接觸角范圍為 115±5°；
■   鋼絲絨耐摩擦測試標準：用 0000#鋼絲絨，面積為 10*10mm,行程 40 次/分，負載1Kg，5000 次往返摩擦后，接觸角大于 100°；
■   橡皮擦測試標準： 直徑 6mm 橡皮擦，行程 25 次/分，負載1Kg， 2500 次往返摩擦后，接觸角大于 100°；
備注：測試樣片玻璃需為經過精密拋光過的觸摸屏蓋板專用玻璃，表面光潔。

匯成真空可以通過在末端，中跨度或窗口上生產單個或多層對稱的金屬涂層，將光纖與鈦/鉑/金一起金屬化，用于密封的光電封裝。 我們的專家還可以在圓柱桿或管組件上創建徑向對稱的物質堆棧。

功能和特點：

- 低溫沉積避免了塑料對光纖的損壞。

- 涂層在整個光纖周圍具有良好的均勻性，以進行準確的光纖對齊。

- 在涂層之前由清潔前一步產生的出色粘附強度。

- 負載鎖定的系統允許涂層外套和連接的組件。

- 重新涂層光纖布拉格光柵。

- 拋光末端的反射和受保護的鏡涂層。

ICP電感耦合等離子體

相對于傳統磁控濺射，ICP濺射光學鍍膜，采用先金屬化濺射，再通過離化反應氣體與金屬薄膜反應化合成介質薄膜，其工藝腔體在一個PM（維護保養）周期內始終保持真空，提供一個穩定可靠的鍍膜環境，而且生產效率更高。 適用于在玻璃，塑料等基材的平面或曲面鍍制AR，超硬AR，BBAR膜層，鏡面，NCVM，濾光片等光學膜的鍍膜，還可以實現AF/AS膜的鍍制。 蒸發/濺射工藝制程中基材清潔和輔助沉積采用ICP源：

電子槍輔助：可通多種氣體，除了做輔助外，有些應用在鍍完后可做一層DLC進行保護；

PVD輔助：主要可用于補氧、補氮一類的應用，適合做氧化物和氮化物。在使用金屬靶高速濺射的情況下使用ICP源補氧或氮進行氧化或氮化，以實現通過磁控濺射的手段快速制備高精密光學薄膜。

ICP的優勢：

提高等離子密度，尤其是惰性反應氣體的離化率

高能粒子轟擊，提高薄膜致密度

提高成膜質量，可避免高溫工藝

改變薄膜晶體結構從而改變薄膜化學或電學性能

CCP電容耦合等離子體

電容耦合等離子體的工作原理與電感耦合等離子體不同。電容耦合方式是由接地的放電室(由復合系數很小的材料如石英做成)和引入的驅動電極作為耦合元件。驅動電極上鍍有濺射產額較低的陶瓷材料以減少離子的對陰極材料的濺射。當與電源接通后,在放電室和驅動電極之間產生高頻電場,自由電子在此作用下做上下往復運動,并激發放電。由于電子的自由程遠大于放電室的尺寸,因此主要靠它們從管壁上打出的二次電子而獲得倍增,后者成為這種放電的維持者,而由氣體電離所產生的二次電子將起次要作用。

RF 離子源
為反應性工藝（例如高度控制的光學鍍膜的離子束輔助沉積或離子束沉積）提供寬而均勻的離子束源。
在惰性和氧化環境中均能實現可靠一致的操作。
穩定高效的等離子體操作具有精確控制能力并允許高重復性。
非常適合于負載鎖定生產工藝。
無極放電，壽命長，工作長時間穩定。
工作高度達1米。
離子能量及離子束流密度可以精確控制且變化范圍大。

霍爾離子源
專為真空鍍膜制程提供高射束電流，從而提高制程均勻性并防止基材受損，實現表面預清潔、輔助沉積及選擇性蝕刻。
對需要高電流、低能量離子的應用非常有效。
高射束電流對于控制薄膜應力和化學計量特別有用。
離子能量發散，離子束發散，有較大均勻區。
離子能量低，離子束流密度較大。
結構簡單，拆卸方便。

考夫曼離子源
離子能量，束密可精確控制，不受環境影響。
放氣量小，污染較小。
工作溫升低，可冷鍍。

     獨特的頻率測量系統，提供穩定、高分辨率的速率和厚度測量，賦予監控過程卓越的可重復性。通過沉積控制器，可利用 QCM 傳感器對沉積過程實現速率控制。匯成真空可按您的要求為您提供具有從最基本到最齊全功能的任何沉積控制器。

      即使在速率極低的情況下也可確保獲得最高、最穩定的速率和厚度測量分辨率，通過自動測定沉積材料的比值，可提高厚度測量的精度，支持多個來源同時共沉積，USB 數據存儲功能可存儲屏幕截圖、配方存儲和數據記錄。

      通過光學膜厚監控儀，您可以極其準確地控制沉積速度和厚度，能夠達到幾乎任何層數，安裝輕松且可靠性極高，從而確保生產效率。匯成真空提供了一種擁有成本極低的儀表，為您帶來前所未有的價值。無論您的控制需要屬于生產還是研發領域，都能從光學膜厚監控儀中找到完美的解決方案。