HCMS+RE系列
內外飾件金屬化
設備將磁控濺射技術和真空蒸發技術結合在同一鍍膜設備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出并部分離化沉積在基材上成膜，同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其汽化再沉積在基材上成膜，增加了設備的用途和靈活性。
利用磁控濺射陰極輝光放電將原子（靶材）離化沉積在基材上（物理氣相沉積PVD）和真空中利用電阻加熱法將金屬絲熔融或金屬分子汽化，對塑料表面進行金屬化、利用特定薄膜涂層實現產品不導電和電磁屏蔽的作用。
設備配置了等離子體處理裝置，高效磁控濺射陰極和電阻蒸發裝置等，設備沉積速率快，鍍層附著力好，鍍層細膩致密，表面光潔度高，且均勻性一致性良好；該機實現鍍膜工藝全自動化控制，裝載量大，工作可靠，合格率高，生產成本低，綠色環保。
優勢：
?鍍鉻外觀豐富
?耐磨/耐腐蝕
?在塑料上具有出色的附著力
?鉻基涂料
?沒有六價鉻化合物（CR + 6）
磁控濺射和真空蒸發技術結合
大裝載量轉架提升產能
工作可靠、重復性一致性良好
沉積速率高快，附著力好
膜層品質細膩，致密性高
韌性好，不易破裂脫落
| 型號 | HCMA-1518 |
| 真空室尺寸 | 1500×1800mm |
| 電源類型 | 電阻加熱鎢絲蒸發變壓器電源、高壓離子轟擊電源、可控硅電源 |
| 真空室結構 | 立式雙開門、立式單開門、臥式單開門、抽氣系統 |
| 真空系統 | 機械泵＋羅茨泵＋擴散泵＋維持泵（或選配：深冷系統） |
| 極限真空 | 8×10-4 pa（空載、凈室） |
| 抽氣時間 | 空載大氣抽至5×10-2pa小于6分鐘 |
| 工件旋轉方式 | 6軸/8軸/9軸公自轉/變頻無級調速 |
| 控制方式 | 手動＋半自動＋全自動一體化/觸摸屏＋PLC |
| 備注 | 真空室尺寸可按客戶產品及特殊工藝要求訂做 |
| 型號 | HCME-1820 |
| 真空室尺寸 | 1800×2000mm |
| 電源類型 | 電阻加熱鎢絲蒸發變壓器電源、高壓離子轟擊電源、可控硅電源 |
| 真空室結構 | 立式雙開門、立式單開門、臥式單開門、抽氣系統 |
| 真空系統 | 機械泵＋羅茨泵＋擴散泵＋維持泵（或選配：深冷系統） |
| 極限真空 | 8×10-4 pa（空載、凈室） |
| 抽氣時間 | 空載大氣抽至5×10-2pa小于6分鐘 |
| 工件旋轉方式 | 6軸/8軸/9軸公自轉/變頻無級調速 |
| 控制方式 | 手動＋半自動＋全自動一體化/觸摸屏＋PLC |
| 備注 | 真空室尺寸可按客戶產品及特殊工藝要求訂做 |
HCVAC-PVD
